CHARVOT, Jaroslav, Daniel POKORNÝ, Raul ZAZPE, Richard KRUMPOLEC, David PAVLIŇÁK, Luděk HROMÁDKO, Jan PŘIKRYL, Jhonatan RODRIGUEZ-PEREIRA, Milan KLIKAR, Veronika JELÍNKOVÁ, Jan M. MACAK a Filip BUREŠ. Cyclic Silylselenides: Convenient Selenium Precursors for Atomic Layer Deposition. ChemPlusChem. Weinheim: Wiley-VCH Verlag, roč. 85, č. 3, s. 576-579. ISSN 2192-6506. doi:10.1002/cplu.202000108. 2020.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Cyclic Silylselenides: Convenient Selenium Precursors for Atomic Layer Deposition
Název česky Cyklické Silylselenidy: Pohodlné prekurzory selenu pro ukládání atomových vrstev
Autoři CHARVOT, Jaroslav (203 Česká republika, garant), Daniel POKORNÝ (203 Česká republika), Raul ZAZPE (203 Česká republika), Richard KRUMPOLEC (203 Česká republika), David PAVLIŇÁK (203 Česká republika), Luděk HROMÁDKO (203 Česká republika), Jan PŘIKRYL (203 Česká republika), Jhonatan RODRIGUEZ-PEREIRA (203 Česká republika), Milan KLIKAR (203 Česká republika), Veronika JELÍNKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Jan M. MACAK (203 Česká republika) a Filip BUREŠ (203 Česká republika).
Vydání ChemPlusChem, Weinheim, Wiley-VCH Verlag, 2020, 2192-6506.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10401 Organic chemistry
Stát vydavatele Německo
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/75081431:_____/20:00001778
Organizační jednotka Vysoká škola technická a ekonomická v Českých Budějovicích
Doi http://dx.doi.org/10.1002/cplu.202000108
UT WoS 000522332200020
Klíčová slova česky depozice atomové vrstvy; molybden; nanostruktury; selen; dichalkogenidy přechodných kovů
Klíčová slova anglicky atomic layer deposition; molybdenum; nanostructures; selenium; transition metal dichalcogenides
Štítky CHS, RIV20, SCOPUS, WOS
Návaznosti GA18-03881S, projekt VaV.
Změnil Změnila: Kateřina Nygrýnová, učo 23736. Změněno: 3. 7. 2020 08:55.
Anotace
Three cyclic silylselenides were prepared in a straightforward manner. Property tuning has been achieved by varying the ring size and the number of embedded selenium atoms. All silylselenides possess improved resistance towards moisture and oxidation as well as high thermal robustness and sufficient volatility with almost zero residues. The six-membered diselenide proved to be particularly superior Se precursors for atomic layer deposition and allowed facile preparation of MoSe2 layers. Their structure and composition have been investigated by Raman and X-ray photoelectron spectroscopy as well as scanning electron microscopy revealing vertically aligned flaky shaped nanosheets.
Anotace česky
Přímým způsobem byly připraveny tři cyklické silylselenidy. Vyladění vlastností bylo dosaženo změnou velikosti kruhu a počtu zabudovaných atomů selenu. Všechny silylselenidy mají zlepšenou odolnost vůči vlhkosti a oxidaci, stejně jako vysokou tepelnou odolnost a dostatečnou těkavost s téměř nulovými zbytky. Šestičlenný diselenid se ukázal jako zvláště lepší prekurzory Se pro ukládání atomové vrstvy a umožnil snadnou přípravu vrstev MoSe2. Jejich struktura a složení byly zkoumány Ramanovou a rentgenovou fotoelektronovou spektroskopií, jakož i skenovací elektronovou mikroskopií odhalující svisle zarovnáné vločkovité nanosheety.
VytisknoutZobrazeno: 28. 3. 2024 17:21